也就是海灣科技了，不然都彆指望乾成這事……為什麼海灣科技可以？因為海灣科技的研發人員人均頂著一個D級科研名額，隨便小組長級彆的技術骨乾都頂著C級科研名額，項目核心基本都是B級科研名額，幾個帶頭技術大佬更是輪流使用A級科研名額。

一個個腦袋瓜子好用的很！

所以才能用這麼一大堆破爛搞出來了堪用的KRF光刻機，如今又朝著DUV乾式光刻機發起衝擊！

在先進設備領域裡，因為工業基礎差，原料差，工藝差，零配件，最後導致搞起來先進設備就是這麼的尷尬。

但是！！！

就是這麼一堆破爛玩意，放眼當下全球除了華夏，不可能有第二個國家能夠在自己家裡全部搜集全。

美國自己都不行！

進入DUV光刻機時期後，光源也好，乃至整個光刻機項目也好，其實已經變成了歐美日韓的廣泛國際合作項目，已經沒有任何一個歐美日韓國家，能夠自行完成所有零部件的生產了。

但是華夏無法從國外進口這些關鍵零部件，所以隻能直接折騰！

這有點類似空間站，彆人不帶華夏玩，隻能自己埋頭折騰自己玩。

所以，彆看這是一堆破爛，但也是非常寶貴的破爛，彙集華夏過去幾十年發展，無數人努力才積攢起來的破爛。

其他國家想要還沒有呢……比如俄羅斯，他們努力了半個世紀，進入24年在戰爭的強烈刺激下，才勉強搞定了350納米的芯片生產工藝！

而海灣科技搞這玩意，隻用了半年不到！

因為海灣科技，是站在巨人的肩膀上，隨便一蹦躂，就搞定了。

隻是進入到DUV光刻機領域後，技術難度又向前邁進了一大步，看似隻是一步，然而實際到工業領域裡卻是彷佛一道天塹，想要跨過去不是那麼容易的。

這個時候，海灣科技已經無法得到大量成熟可用的材料以及設備了。

這個時候怎麼辦？

還能怎麼辦，在一群破爛裡挑挑揀揀，然後再埋頭自己開發一些材料，搞一些新設備，新工藝，然後看看能不能勉強湊一個出來。

而就是這麼一個看似攢破爛的過程，光靠海灣科技一家也很難做到，哪怕是加上整個仙女山控股體係也很難。

這也是前些時候徐申學聽聞DUV乾式光刻機做起來磕磕絆絆，而浸潤式光刻機更是連個頭緒都還沒有的時候，最終下決心去京城彙報工作的原因。

他求援去了！

最終，他做了一場長達一個多小時的專題報告，當時他還帶上了一台機器狗以及一台無人機，一起去的還有一台看似不起眼的小主機裡運行，智能研究院研發出來的新AI的係統。

進行了一場小規模的無人設備的演示。

最後獲得了他想要的支援：一批研究所、高校以及部分相關企業，將會以產研合作，企業合作等方式參與這一大項目：集中力量攻關先進半導體製程！

初步目標是六十五納米工藝，然後是突破四十五納米工藝……也就是做到DUV浸潤式光刻機的水準。

並對EUV光刻機進行前期理論，材料等領域的提前研究。

而智雲微電子以及海灣科技，作為牽頭企業將會主導整個項目。

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半導體領域的發展，是一個長期過程，雖然徐申學做了不少的努力，也投入了巨大的資源，但是一時半會的也看不到成果，一切順利都得夏天的時候才能夠看見第一台DUV乾式光刻機的樣機呢。

而對此，徐申學保持著期待以及耐心。

反正現在外部環境也還算可以，雖然問題多多，但是依舊沒到太嚴重的地步。

拋開大環境影響，智雲科技本身也在積極處理各種問題，在國外也舍得花錢進行各種公關，因此雖然已經有了一些聲音，要對智雲科技進行製裁啊，封鎖之類的，但是目前還算可控。

智雲科技還有一些時間來進行調整，並繼續積攢實力。

這也是智雲科技旗下的智雲微電子，年初的時候一口氣開建五座十二寸晶圓廠，並下達了大量各種芯片生產線訂單的緣故！

晶圓廠建設需要時間，設備到貨也需要時間……而留給智雲科技的時間在徐申學看來已經不多了！

所以動作必須快一些，提前囤積一大批的先進DUV浸潤式光刻機以及其他一係列的半導體設備。

這樣真等到幾年後迎來了片麵的製裁，也不用太擔心，可以通過一些手段來解決芯片問題。

以上這些是設備，徐申學在諸多耗材領域也保持了極大的關注。

半導體生產線可不僅僅是設備問題，實際上各類耗材，比如光刻膠，特種氣體也是非常重要的，而這些方麵的國產化也無限接近於零。

仙女山控股旗下的不少子公司，都是從事這些半導體耗材領域的研究……

旗下從事光刻膠研發的華賽電子，光刻膠領域裡進展還算可以，負膠基本沒問題，高分辨率的g線、i線光刻膠之前也已經陸續解決。

更高分辨率，用於深紫外線光刻，在248納米波長，也就是KRF光刻機上使用的光刻膠已經進行小規模的測試，智雲微電子那邊是一邊測試一邊用，但是問題比較多，目前還處於繼續改進當中，並沒有大規模直接使用。

乃是勉勉強強也可以說，華賽電子已經搞定了芯片生產裡130納米工藝節點的光刻機的技術問題，隻要有需求的話，那麼扛著高成本也一樣能夠供應智雲微電子或者國內其他芯片廠家使用。

同時更先進的193納米光源波長的光刻機，也就是用於DUV乾式光刻機乃至現在最先進的DUV浸潤式光刻機上的使用的光刻膠麵臨的問題要更大一些。

徐申學看過仙女山控股轉發的一些報告，說是什麼現有的光刻膠材料裡含有苯環結構，導致193納米波長的光源吸收太高而無法使用！

這意味著需要重新開發一種光刻膠材料，至於什麼時候才能搞出來，這種材料學的問題都是玄學問題，華賽電子也給不了一個準確的時間表！

他們能夠做的就是儘可能的展開更多的研發，同時試驗更多不同的材料組合，然後才能夠搞出來。

各種特種氣體的情況也和光刻膠比較類似，低製程工藝裡的特種氣體基本都能自行解決，但是用於更高工藝製程的就有些欠缺了。